Penyaduran Ion Berbilang Arka (MAIP) untuk Tiub Pemanas Elektrik Penyaduran Vakum

Penyaduran Ion Berbilang Arka (MAIP) untuk Tiub Pemanas Elektrik Penyaduran Vakum

Penyaduran ion berbilang arka ialah kaedah menggunakan nyahcas arka untuk menyejat logam secara langsung pada sasaran katod pepejal. Bahan yang tersejat ialah ion bahan katod yang dilepaskan dari titik terang arka katod, dengan itu memendap pada permukaan substrat sebagai kaedah filem nipis.

Penyaduran ion berbilang arka sangat berbeza daripada penyaduran ion umum. Penyaduran ion berbilang arka menggunakan nyahcas arka dan bukannya nyahcas cahaya penyaduran ion tradisional untuk pemendapan. Ringkasnya, prinsip penyaduran ion berbilang arka adalah menggunakan sasaran katod sebagai sumber penyejatan, dan melalui pelepasan arka antara sasaran dan selongsong anod, bahan sasaran disejat, dengan itu membentuk plasma dalam ruang dan mendepositkan substrat.

Penyaduran Ion Berbilang Arka (MAIP) untuk Tiub Pemanas Elektrik Penyaduran Vakum

Penyaduran ion berbilang arka ialah kaedah menggunakan nyahcas arka untuk menyejat logam secara langsung pada sasaran katod pepejal. Bahan yang tersejat ialah ion bahan katod yang dilepaskan dari titik terang arka katod, dengan itu memendap pada permukaan substrat sebagai kaedah filem nipis.

Penyaduran ion berbilang arka sangat berbeza daripada penyaduran ion umum. Penyaduran ion berbilang arka menggunakan nyahcas arka dan bukannya nyahcas cahaya penyaduran ion tradisional untuk pemendapan. Ringkasnya, prinsip penyaduran ion berbilang arka adalah menggunakan sasaran katod sebagai sumber penyejatan, dan melalui pelepasan arka antara sasaran dan selongsong anod, bahan sasaran disejat, dengan itu membentuk plasma dalam ruang dan mendepositkan substrat.

Teknologi Sputtering RF Tiub Pemanas Elektrik Penyaduran Vakum

Sputtering frekuensi radio adalah sejenis teknologi salutan sputter. Sistem sputtering AC dibentuk dengan menggantikan bekalan kuasa DC dengan bekalan kuasa AC. Oleh kerana kekerapan bekalan kuasa AC yang biasa digunakan adalah dalam jalur frekuensi radio, seperti 13.56MHz, ia dipanggil sputtering frekuensi radio.

Dalam peranti RF DC, jika sasaran bahan penebat digunakan, ion positif yang mengebom permukaan sasaran akan terkumpul pada permukaan sasaran, menjadikannya bercas positif, dan potensi sasaran akan meningkat, supaya medan elektrik antara elektrod akan beransur-ansur berkurangan sehingga pelepasan cahaya dipadamkan dan percikan berhenti. Oleh itu, peranti sputtering DC tidak boleh digunakan untuk pemendapan sputtering filem dielektrik penebat.

www.superbheater.com