Apakah kesan evolusi hidrogen daripada tiub pemanasan elektrik pada penyaduran elektrik?

Apakah kesan evolusi hidrogen daripada tiub pemanasan elektrik pada penyaduran elektrik?

9. Apakah syarat untuk menghasilkan lubang jarum? Adakah terdapat pembentukan lubang jarum akibat pembentukan buih?

Jawapan: Penjanaan lubang jarum terutamanya disebabkan oleh pengekalan buih pada permukaan bahagian bersalut, tetapi pembentukan buih tidak semestinya mengakibatkan pembentukan lubang jarum. Kerana pembentukan lubang jarum memerlukan dua syarat: pertama, mesti ada gelembung (terutamanya gas hidrogen) yang dihasilkan; Gelembung kedua yang dihasilkan boleh menjerap ke bahagian bersalut. Jika buih yang dihasilkan tidak boleh kekal di permukaan bahagian bersalut, tiada lubang jarum akan dihasilkan. Semasa proses elektrolisis, seperti penyaduran kuprum sianida dan penyaduran kromium, sejumlah besar gelembung hidrogen dihasilkan; Tetapi selepas ia dihasilkan, mereka semua dengan cepat melimpah permukaan cecair, menjadikannya sukar untuk kekal di permukaan bahagian bersalut, jadi lubang jarum jarang terbentuk.

10. Apakah kesan evolusi hidrogen ke atas penyaduran elektrik?

Jawapan: Evolusi hidrogen hampir tidak dapat dielakkan semasa proses penyaduran elektrik. Hidrogen yang dimendakan menembusi ke dalam salutan dan logam substrat, mengakibatkan pereputan hidrogen dan menjejaskan sifat mekanikal bahagian tersebut. Jika hidrogen termendap kekal di permukaan bahagian dalam bentuk buih, ia akan menyebabkan liang dan lubang dalam salutan. Kaedah penyingkiran adalah dengan menambah oksidan, agen pembasahan, dan rawatan penyingkiran hidrogen selepas penyaduran. Kehadiran kekotoran organik mempunyai kesan penjerapan pada hidrogen, menyukarkan gelembung hidrogen keluar pada permukaan katod, menjadikannya lebih terdedah kepada lubang jarum dan pitting.

11. Bagaimana untuk menghapuskan lubang jarum dalam salutan?

Jawapan: Penjanaan lubang jarum adalah masalah yang agak kompleks. Jika lubang jarum dijana disebabkan oleh keadaan operasi yang tidak standard atau komposisi penyelesaian, ia masih mudah untuk diperbaiki. Hanya menukar keadaan operasi atau melaraskan komposisi penyelesaian untuk memenuhi keperluan boleh menyelesaikan masalah. Sekiranya terdapat kekotoran organik dalam larutan yang menyebabkan lubang jarum, punca utama mesti dikenal pasti. Sekiranya tiada kekotoran organik, kaedah yang mudah dan berkesan adalah dengan menambah agen anti lubang jarum. Ejen pembasah (seperti natrium dodesil sulfat, dengan dos 0.01-0.05g/L) boleh ditambah pada larutan penyaduran nikel terang. Dalam penyaduran nikel biasa, 0.1mL/L hidrogen peroksida boleh ditambah selepas kerja harian, dan larutan boleh dikacau dengan teliti selepas penambahan. Dengan kehadiran hidrogen peroksida (atau oksidan lain), tindak balas H dikurangkan kepada H di katod digantikan dengan pengurangan oksidan di katod, menghapuskan penjanaan gelembung hidrogen dan mengelakkan lubang jarum. Walau bagaimanapun, jika terdapat terlalu banyak kekotoran organik dalam larutan penyaduran, keberkesanan langkah-langkah ini juga akan terjejas, atau malah tidak berkesan. Dalam kes ini, penyelesaian penyaduran perlu dirawat dengan penulenan (rawatan gabungan pengoksidaan hidrogen peroksida dan penjerapan karbon teraktif).

www.superbheater.com