Percikan mesin penyaduran vakum juga meningkatkan kekasaran permukaan substrat

Percikan mesin penyaduran vakum juga meningkatkan kekasaran permukaan substrat

Lekatan yang kuat, dan salutan tidak mudah jatuh. Apabila mesin penyaduran ion digunakan untuk penyaduran ion, permukaan substrat dibombardir oleh ion dan dibersihkan secara berterusan, yang meningkatkan lekatan permukaan substrat. Pada masa yang sama, sputtering juga meningkatkan kekasaran permukaan substrat. Sebab lain ialah tenaga kinetik yang dibawa oleh ion yang mengebom substrat ditukar kepada tenaga haba pada permukaan substrat, menghasilkan kesan pemanasan sendiri, yang meningkatkan sifat kristal struktur lapisan pada permukaan substrat, dan menggalakkan tindak balas kimia dan resapan.

Salutan mesin penyaduran vakum selalunya adalah filem nipis logam

Filem disediakan dalam vakum, termasuk penyaduran logam kristal, semikonduktor, penebat dan filem unsur atau kompaun lain. Walaupun pemendapan wap kimia juga menggunakan kaedah vakum seperti tekanan dikurangkan, tekanan rendah atau plasma, salutan vakum secara amnya merujuk kepada pemendapan filem nipis melalui kaedah fizikal. Terdapat tiga bentuk salutan vakum iaitu salutan sejatan, salutan sputtering dan salutan ion. Takrif salutan vakum merujuk kepada pemendapan logam atau sebatian logam tertentu pada permukaan bahan dalam bentuk wap dalam persekitaran vakum, yang tergolong dalam proses pemendapan wap fizikal. Kerana salutan selalunya filem logam, salutan vakum juga dipanggil metalisasi vakum. Fungsi salutan vakum adalah pelbagai aspek, yang juga menentukan bahawa ia adalah teknologi yang sangat berpotensi. Secara umum, fungsi utama salutan vakum termasuk memberikan kilauan logam dan kesan cermin tahap tinggi ke permukaan bahagian bersalut, menjadikan lapisan filem mempunyai sifat penghalang yang sangat baik pada bahan filem nipis, dan memberikan perisai elektromagnet yang sangat baik dan kesan konduktif.

www.superbheater.com