Mesin salutan vakum sangat meningkatkan struktur dan sifat mekanikal filem

Mesin salutan vakum sangat meningkatkan struktur dan sifat mekanikal filem

Ia dimendapkan pada permukaan substrat dalam persekitaran vakum yang mengandungi gas lengai atau gas reaktif. Rasuk ion dengan tenaga tinggi sangat bermanfaat untuk meningkatkan daya ikatan substrat filem dan mengganggu struktur kristal kolumnar filem, yang juga boleh meningkatkan organisasi filem. Sifat struktur dan mekanikal. Pada masa ini, pelbagai pengeluar peralatan filem nipis telah menggunakan pelbagai langkah untuk mengurangkan penjanaan "titisan" melalui penyelidikan prinsip dan proses pembentukan filem.

Antaranya, BAI1200 dan RCS mengguna pakai teknologi sumber katod satah bulat dan teknologi pemanasan sinaran, yang boleh menjalankan pengeluaran salutan pesat. TiAlN yang disediakan melalui proses ini boleh meningkatkan kestabilan bahagian pemotongan alat pemesinan dan membolehkan pemotongan kering.

Teknologi Arka Katod Pelapis Vakum

Teknologi arka katod mesin salutan vakum adalah teknologi yang menggunakan pelepasan arka dalam persekitaran vakum untuk menguap dan mengionkan sasaran katod pepejal, dan kemudian terbang ke permukaan substrat anod untuk mendepositkan filem melalui kesan pengukuhan plasma. . Oleh sebab itu, teknologi arka katodik mempunyai kadar pemendapan yang sangat tinggi.

Mesin salutan vakum boleh secara pasif menjalankan perlindungan dinamik

Mesin salutan vakum mempunyai peranti pengesanan kawalan diri, yang boleh menjalankan perlindungan dinamik secara pasif. Dalam proses permohonan sebenar, untuk mengkaji dan menambah baik peranti pengesanan, memandangkan suhu mempengaruhi prestasi penjerapan dan penyerapan bahan penapis, peranti akan diletakkan di dalam bilik berhawa dingin. Kelembapan menjejaskan penyerapan lembapan bahan penapis di satu pihak, dan menjejaskan prestasi penyerapan reagen, yang memerlukan kawalan ketat. Ia ditentukan mengikut tiub pengukur mangkin dan kelajuan tertentu. Kadar aliran adalah berkadar songsang dengan masa perlindungan dinamik, dan kepekatan reagen juga berkadar songsang dengan masa perlindungan dinamik. Turun naik juga akan mempengaruhi penentuan titik akhir.

Bagi memenuhi keperluan tersebut, pelbagai penambahbaikan akan dilakukan dari semasa ke semasa. Aspek utama ialah sensor suhu dan kelembapan E plus E29 digunakan untuk menggantikan higrometer mentol basah dan kering. Teknologi pam jet menyedari pencampuran seragam reagen untuk masa yang lama dan kepekatannya stabil di bawah tekanan reagen yang lebih rendah.

www.superbheater.com