Mesin salutan vakum memastikan keseragaman lapisan filem

Mesin salutan vakum memastikan keseragaman lapisan filem

Penyejatan rintangan dan magnetron sputtering digabungkan dengan pasti, supaya peralatan yang sama bukan sahaja boleh menyejat logam titik lebur rendah dan bahan bukan logam yang biasa digunakan, seperti filem aluminium hiasan pada plastik, tetapi juga memproses logam tahan api dan kekerasan tinggi, seperti filem penyaduran tembaga, filem titanium, filem super keras, filem aloi, dll. Menggunakan jenis sasaran magnetron berkecekapan tinggi baharu, kadar sputtering sasaran adalah tinggi, yang memastikan keseragaman lapisan filem, dan boleh menghasilkan tinggi- produk salutan berkualiti.

Selepas pincang negatif digunakan pada substrat bersalut ion, pelbagai ion dan aliran zarah neutral bertenaga tinggi membedil permukaan substrat dengan tenaga yang tinggi. Peningkatan voltan pincang negatif substrat akan menjadikan permukaan substrat memperoleh tenaga yang lebih tinggi, mungkin membentuk lapisan pseudo-difusi, meningkatkan lekatan antara lapisan filem dan substrat, dan juga mengubah organisasi, struktur dan prestasi lapisan filem, seperti menapis kristal. Rajah 2 menunjukkan bahawa dengan peningkatan bias negatif substrat, struktur filem menjadi lebih nipis, tetapi peningkatan bias negatif substrat juga akan mempunyai beberapa kesan buruk, seperti peningkatan kesan sputtering terbalik, menjadikan lapisan filem Permukaan terukir, yang mengurangkan kelicinan permukaan. Rajah 3 menunjukkan kesan pincang negatif substrat pada kilauan permukaan filem kromium apabila katod berongga dikrom. Peningkatan bias negatif substrat juga akan mengurangkan kadar pemendapan. Suhu substrat meningkat. Rajah 4 menunjukkan pengaruh voltan pincang negatif substrat filem timah penyaduran ion arka ke atas kadar pemendapan. Oleh itu, bias negatif yang sesuai untuk substrat harus dipilih mengikut kaedah penyaduran ion yang berbeza, lapisan filem yang berbeza dan keperluan aplikasi. tekanan.

www.superbheater.com