Lapisan salutan vakum juga terdedah untuk jatuh dalam persekitaran yang keras mesin salutan vakum

Lapisan salutan vakum juga terdedah untuk jatuh dalam persekitaran yang keras mesin salutan vakum

Jika ia terdedah kepada persekitaran yang keras untuk masa yang lama, lapisan salutan vakum juga terdedah kepada masalah seperti mengelupas, atau ia bersentuhan dengan cecair menghakis untuk masa yang lama. Seperti kolam renang (mengandungi fluorin) air laut (mengandungi lebih banyak garam) suhu tinggi dan kelembapan tinggi (wap) dan persekitaran lain. Salutan vakum dan kemudian semburkan lapisan minyak jernih anti-cap jari yang lutsinar b. Penggunaan minyak jernih anti cap jari. Semakin ramai pelanggan memilih produk keluli tahan karat yang disalut dengan salutan vakum warna.

Mesin salutan vakum tidak menggunakan agen pembersih dengan asid kuat dan alkali atau keupayaan dekontaminasi yang kuat

Salutan vakum mempunyai tahap rintangan kakisan tertentu. Biasanya, cuba untuk tidak menggunakan agen pembersih yang mengandungi asid kuat dan alkali atau keupayaan penyahcemaran yang kuat. Seperti pembersih tandas, penghilang cat, agen pembersih logam, dan lain-lain, anda boleh memilih industri jika terdapat kotoran di permukaan, perlahan-lahan lap dengan alkohol dengan kain kapas lembut. Asid lemah dan pelarut bes lemah juga harus digunakan untuk rawatan.

Analisis masalah dalam industri mesin salutan vakum

1. Keupayaan P&P yang lemah

2. Transformasi teknikal ketinggalan

3. Mekanisme dan model pengurusan tidak memenuhi keperluan perusahaan moden

4. Isu bakat

5. Produk yang serupa

6. Pasaran produk vakum adalah huru-hara

7. Pertumbuhan mendadak dalam pengeluar

8. Berbanding dengan rakan sejawat asing, produk mewah masih berada pada kedudukan yang kurang baik dalam teknologi

Daya interaksi antara filem Al dan substrat dalam penyalut vakum

Tenaga percikan atom dalam peralatan salutan vakum adalah 1-2 susunan magnitud lebih tinggi daripada atom yang menyejat. Penukaran tenaga bagi atom sputtering bertenaga tinggi yang didepositkan pada substrat adalah jauh lebih tinggi daripada atom penyejatan, menghasilkan tenaga haba yang lebih tinggi, dan beberapa atom sputtering bertenaga tinggi menghasilkan darjah implantasi yang berbeza, membentuk lapisan pada substrat. Atom terpercik dan substrat mempunyai lapisan pseudo-resapan yang bercantum antara satu sama lain, dan substrat sentiasa dibersihkan dan diaktifkan di kawasan plasma semasa proses pembentukan filem peralatan salutan vakum, yang mengeluarkan atom yang terbantut dengan lekatan yang lemah dan menyucikan. Di samping itu, permukaan substrat diaktifkan, dan lekatan antara atom terpercik dan substrat dipertingkatkan, jadi lekatan antara filem Al terpercik dan substrat adalah tinggi. Lekatan mencerminkan daya interaksi antara filem Al dan substrat, dan juga merupakan faktor penting untuk memastikan ketahanan peranti. Tenaga percikan atom dalam peralatan salutan vakum adalah 1-2 urutan magnitud lebih tinggi daripada atom yang menyejat.

www.superbheater.com