Bahan asas penyaduran perkakasan penyaduran vakum adalah logam

Bahan asas penyaduran perkakasan penyaduran vakum adalah logam

Bahan asas penyaduran elektrik perkakasan adalah logam, seperti besi, aloi zink, aloi tembaga, dan lain-lain. Bahan asas penyaduran plastik adalah plastik. Oleh kerana substrat yang berbeza, proses pra-diproses adalah berbeza sama sekali, tetapi penyaduran seterusnya pada dasarnya adalah sama.

Nisbah kawasan katod dan anod dalam penyaduran vakum dan kesan penggilapan antara elektrod

Dalam proses penyaduran vakum, seperti nisbah kawasan katod dan anod dalam elektrod dan jarak antara elektrod akan mempunyai kesan penting ke atas penggilap. Perubahan boleh laras pada masa yang sama, dengan mempunyai korelasi, akan berkait antara satu sama lain. Sebagai contoh, apabila bahagian keluli tahan karat digilap, komposisi keluli tahan karat, ciri, struktur metalografi dan keadaan permukaan bahagian ditentukan, tetapi komposisi dan formula cecair penggilap elektro yang digunakan, dan keadaan proses penggilap akan mempengaruhi satu sama lain. .

Faktor yang mempengaruhi kualiti penggilapan penyaduran vakum adalah banyak dan kompleks

Proses penggilapan adalah projek yang agak rumit dalam proses penyaduran vakum. Kerana faktor yang mempengaruhi kualiti penggilap adalah pelbagai rupa dan kompleks. Sebagai kesimpulan, terdapat terutamanya sifat bahan penggilap itu sendiri, seperti sifat fizikal dan mekanikal, struktur logam; keadaan permukaan yang digilap; komposisi dan formula larutan elektrolit; keadaan operasi dan parameter proses, seperti suhu larutan, kepekatan, nilai PH, operasi dan penggunaan Ketumpatan voltan dan arus larutan; keadaan aliran dan kelajuan penyelesaian, dan kawalan masa menggilap.

Atom neutral diionkan oleh penyaduran vakum

Atom neutral terion (kira-kira 95 peratus daripada bahan tersejat) juga dimendapkan pada substrat atau permukaan dinding kebuk vakum. Kesan medan salutan PVD pada kesan pembersihan substrat molekul wap (tenaga ion adalah kira-kira beberapa ratus kiloelektron volt) dan ion argon sputtering, kesan pecutan kekuatan lekatan filem meningkat dengan banyak.

www.superbheater.com