Teknologi salutan penyejatan tiub pemanasan elektrik penyaduran vakum di bawah keadaan vakum

Teknologi salutan penyejatan tiub pemanasan elektrik penyaduran vakum di bawah keadaan vakum

1. Prinsip penyejatan

Kaedah mengubah bahan penyaduran kepada fasa gas dengan memanaskan dan penyejatan dalam vakum tinggi, dan kemudian memeluwapkannya pada permukaan substrat dipanggil salutan penyejatan (dirujuk sebagai penyejatan). Proses salutan sejatan terdiri daripada tiga proses: penyejatan bahan salutan, penghijrahan zarah bahan sejat, dan pemendapan zarah bahan sejat pada permukaan substrat.

Salutan penyejatan adalah sejenis pemendapan wap fizikal. Berbanding dengan salutan sputtering dan salutan ion, ia mempunyai kelebihan dan kekurangan berikut: peralatannya mudah dan boleh dipercayai, prosesnya mudah dikuasai, dan pengeluaran berskala besar boleh dijalankan. Mekanisme pembentukan salutan agak mudah, dan kebanyakan bahan boleh digunakan. Salutan penyejatan vakum; tetapi daya ikatan antara salutan dan substrat adalah lemah, dan sukar untuk membuat salutan bahan takat lebur tinggi dan bahan tekanan wap rendah, seperti platinum, aluminium dan logam lain, dan bahan pijar yang digunakan untuk bahan penyejatan akan juga menyejat dan menjadi kekotoran bercampur ke dalam salutan. .

2. Sumber penyejatan

Salutan penyejatan perlu memanaskan bahan salutan menjadi atom wap, dan sumber penyejatan adalah bahagian utamanya. Kebanyakan bahan logam tersejat pada suhu 1000-2000. Oleh itu, bahan mesti dipanaskan pada suhu yang tinggi. Kaedah pemanasan yang biasa digunakan ialah: kaedah rintangan, kaedah pancaran elektron, kaedah frekuensi tinggi, dsb.

Tiub pemanasan elektrik penyaduran vakum di bawah keadaan vakum

Penyaduran sejatan ialah kaedah memanaskan logam cair di bawah keadaan vakum untuk memendapkan atom atau molekul logam yang tersejat pada permukaan bahagian bersalut untuk membentuk filem logam.

Sputtering adalah untuk memperkenalkan gas argon di bawah keadaan vakum untuk menjadikannya nyahcas bercahaya, dan ion argon bercas positif (Ar plus) mengebom katod di bawah tindakan medan elektrik yang kuat, supaya atom yang membentuk katod terpercik ke permukaan kepingan penyaduran untuk membentuk filem. kaedah lapisan.

Penyaduran ion adalah menggunakan gas lengai (Ar) dan gas reaktif (O2, N2, NH4) sebagai medium, dan menggunakan nyahcas gas untuk menjana ion, zarah neutral dan gas tidak aktif bagi bahan yang sebahagiannya tersejat di bawah keadaan vakum. Kaedah membombardir permukaan bahagian bersalut dengan tekanan tinggi negatif dan mengembangkan filem pada satu sisi.

www.superbheater.com