Keperluan proses salutan konvensional untuk penyaduran perak vakum

Keperluan proses salutan konvensional untuk penyaduran perak vakum

Proses salutan konvensional memerlukan suhu substrat yang dinaikkan (biasanya sekitar 300 darjah ); teknik yang lebih maju, seperti pemendapan berbantu ion (IAD), boleh dilakukan pada suhu bilik. Proses IAD bukan sahaja menghasilkan filem dengan sifat fizikal yang lebih baik daripada proses salutan konvensional, tetapi juga boleh digunakan pada substrat yang diperbuat daripada plastik. Kaedah tradisional pemendapan filem nipis ialah penyejatan haba, sama ada dengan sumber penyejatan yang dipanaskan secara rintangan atau dengan sumber penyejatan rasuk elektron. Sifat filem ditentukan terutamanya oleh tenaga atom termendap, yang hanya kira-kira 0.1 eV dalam penyejatan konvensional. Pemendapan IAD menghasilkan pemendapan langsung wap terion dan menambah tenaga pengaktifan pada filem yang semakin meningkat, biasanya pada urutan 50 eV. Sumber ion meningkatkan sifat filem penyejatan rasuk elektron konvensional dengan mengarahkan rasuk dari pistol ion ke permukaan substrat dan filem yang semakin meningkat.

Penyaduran perak vakum teknologi salutan karbon amorfus seperti berlian

Dalam persekitaran vakum, dengan bantuan gas lengai, atom karbon terkumpul pada permukaan kepingan bersalut untuk membentuk lapisan kristal berlian padat. Ikatan antara mereka sangat padat, sehingga bahagian bersalut yang dirawat DLC mempunyai kekerasan permukaan (kira-kira 3500 Hv), kestabilan dan kelancaran yang boleh mengatasi bahan seramik, dan jauh lebih unggul daripada bahan seramik tradisional dari segi tekstur dan keliatan. Walau bagaimanapun, kerana kosnya jauh lebih tinggi daripada PVD, ia pada masa ini hanya digunakan pada jam tangan dengan harga unit sederhana dan tinggi.

Selain DLC, terdapat teknologi salutan karbon seperti berlian amorfus ADLC (Amorphous-DL C) tertib lebih tinggi, yang digunakan oleh segelintir dalam pengeluaran jam tangan. Salutan DLC tradisional masih boleh melihat struktur kristal yang tidak teratur di bawah mikroskop elektron, yang masih akan memberi kesan kepada kekuatan keseluruhan; manakala salutan ADLC diperhatikan di bawah mikroskop elektron, ia adalah lapisan seperti cermin dekat dengan permukaan. Salutan sempurna kepingan bersalut, kekerasan permukaan juga sangat meningkat kepada maksimum kira-kira 6000 Hl, iaitu kira-kira separuh daripada berlian asli, yang merupakan teknologi salutan permukaan yang paling berkuasa pada masa ini.

www.superbheater.com