200 mesin salutan vakum perlu membersihkan studio sekali

200 mesin salutan vakum perlu membersihkan studio sekali

Selepas peralatan salutan vakum melengkapkan lebih daripada 200 prosedur salutan, studio perlu dibersihkan sekali. Kaedahnya ialah: gosok berulang kali dinding dalam ruang vakum dengan larutan tepu soda kaustik (NaOH), (perhatikan bahawa kulit manusia tidak boleh terus menghubungi larutan soda kaustik untuk mengelakkan luka terbakar) Tujuannya adalah untuk membuat bahan filem bersalut. aluminium (AL) bertindak balas dengan NaOH. Lapisan itu jatuh dan gas hidrogen dibebaskan. Kemudian bersihkan kebuk vakum dengan air bersih dan bersihkan kotoran dalam injap pengekstrakan dengan kain yang dicelup dalam petrol.

Proses pembentukan filem mesin salutan vakum

Salutan penyejatan secara amnya memanaskan bahan sasaran untuk menyejat komponen permukaan dalam bentuk kumpulan atom atau ion, dan mengendap di permukaan substrat untuk membentuk filem nipis melalui proses pembentukan filem (struktur seperti pulau berselerak-struktur vagal- pertumbuhan berlapis). Untuk salutan sputtering, ia boleh difahami secara ringkas sebagai membombardir sasaran dengan elektron atau laser bertenaga tinggi, dan memercikkan komponen permukaan dalam bentuk kumpulan atom atau ion, dan akhirnya memendap pada permukaan substrat, melalui filem- proses pembentukan, dan akhirnya membentuk filem nipis.

Kepekatan arus tempatan dalam mesin salutan vakum

Bahagian yang dikeluarkan dari titik ketumpatan elektron tinggi akan menghasilkan arus ketumpatan tinggi, dan arus ketumpatan tinggi boleh menghasilkan haba Joule dan menjadikan suhu titik terus meningkat, memancarkan elektron panas. Fenomena ini menghasilkan kepekatan arus setempat.

Haba Joule yang dijana oleh kepekatan setempat arus boleh mendorong pelepasan ion dan elektron besar-besaran daripada bahan katod, membebaskan zarah bahan katod cair dan meninggalkan kesan nyahcas.

Sebahagian daripada ion dalam sejumlah besar ion yang dikeluarkan akan disedut kembali ke permukaan bahan katod untuk menjana semula lapisan cas ruang dan medan elektrik yang kuat, dan titik yang baru dijana dengan fungsi kerja yang kecil akan mula mengeluarkan elektron semula .

www.superbheater.com